什么化学剂可以把抛光后的半导体中硅半导体硅片洗干净?
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发布时间：2022-04-23 13:38
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时间：2023-02-07 21:54
标准的RCA清洗方法：
1 NH3•H2O（氨水）：H2O2（双氧水）：去离子水=1：1：5浸泡（70~80度）
2 HF：去离子水=1：20浸泡。3 HCL（盐酸）：H202（双氧水）：去离子水=1：1：5浸泡（70~80度）。
