专利名称：反射与穿透式扫描装置专利类型：实用新型专利发明人：黄志文
申请号：CN00260684.4申请日：20001129公开号：CN2454825Y公开日：20011017
摘要：一种反射与穿透式扫描装置,包括：一本体、一第一移动反射模组、一第二移动反射模组、一透镜组、一影像撷取单元及一调整机构。于本体上设有反射稿平台及透射稿平台。于第一移动反射模组中设有两光源及两镜片用以产生两种不同光程路径,由调整机构将透镜组与影像撷取单元的位置切换于两光程路径之间。当切换于第一光程路径时可进行反射式扫描模式；当切换于第二光程路径时可进行穿透式扫描模式。其适于大尺寸稿件扫描,且扫描质量高。
申请人：力捷电脑股份有限公司
地址：中国台湾
国籍：CN
代理机构：永新专利商标代理有限公司
代理人：李树明
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