专利名称：渗透薄膜结构专利类型：实用新型专利
发明人：梁家凤,詹明勋,程远东,陆佩卿,吴国辉,杨福助,洪登
南
申请号：CN201020647034.7申请日：20101201公开号：CN202088543U公开日：20111228
摘要：本实用新型提出一种渗透薄膜结构，该薄膜包含：选用适当比例的聚乙烯亚胺(PEI)、聚乙烯醇(PVA)、聚氨酯(PU)、乙烯醋酸乙烯酯树脂(EVA)制成的一高分子掺合薄膜；并且，于该高分子掺合薄膜加入抗菌剂及无机金属氧化物，藉以形成具有抑菌及自洁效果；而该层薄膜可利用一无纺布、棉质布料或其它人工皮革等材料作为基材，以形成各种特定用途的抗菌材料。
申请人：以斯帖材料科技有限公司
地址：中国台湾高雄市
国籍：CN
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
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