专利名称：一种抗辐射与防辐射相结合的成像光路结构专利类型：发明专利
发明人：寇婕婷,郑重,汪增福,乌达巴拉,刘卫,吴宝元申请号：CN201610196216.9申请日：20160330公开号：CN105676451A公开日：20160615
摘要：本发明涉及一种抗辐射与防辐射相结合的成像光路结构，其特征是：用于固定光路结构的防护框架以竖向通道和连通在竖向通道底部的水平通道构成“L”形光路通道，设置在竖向通道上的上部右侧开口作为光路通道入口，设置在竖向通道上的下部右侧开口作为水平通道光路入口；防护框架的外表设置以铅浇铸成型的防辐射保护层；在“L”形光路通道中，由第一平面反射镜和第二平面反射镜形成与入射光平行的出射光C；抗辐射成像镜头的光轴与出射光C重合，在抗辐射成像镜头与CCD相机之间，以抗辐射光纤传像束进行信号传输。本发明在强辐射环境下的工作中，其成像元件和成像设备能够保持长时间稳定的工作。
申请人：中国科学院合肥物质科学研究院
地址：230031 安徽省合肥市蜀山区董铺岛
国籍：CN
代理机构：安徽省合肥新安专利代理有限责任公司
代理人：何梅生
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