专利名称：环氧化二烯嵌段共聚物的羟基官能化衍生物及其制
备方法
专利类型：发明专利
发明人：R·C·贝宁,J·R·埃里克森,D·J·斯特克莱尔,C·J·吉布
勒,J·J·弗洛里斯,C·J·思塔克
申请号：CN99108492.6申请日：19930401公开号：CN1244542A公开日：20000216
摘要：一种生产在二烯嵌段中含有羟基的共轭二烯的聚合物。一种含有0.1～15毫克当量羟基/克聚合物的共轭二烯嵌段共聚物,该聚合物包含上式的羟基，式中各基团的定义详见说明书。
申请人：国际壳牌研究有限公司
地址：荷兰海牙
国籍：NL
代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人：唐伟杰
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容