专利名称：膜形成设备、基板处理设备和装置制造方法专利类型：发明专利发明人：西康孝,中积诚申请号：CN201580019801.5申请日：20150417公开号：CN106232867A公开日：20161214
摘要：提供了：一种膜形成设备，所述膜形成设备改善通过喷射薄膜形成材料而在基板上形成的薄膜的膜厚度的均匀性；基板处理设备；以及装置制造方法。在基板(P)上形成薄膜的该膜形成设备(20)设置有喷射薄膜形成材料的喷嘴(54)和排出气体的排气单元(60)。排气单元(60)的排气口(60a)相对于基板(P)设置在与重力作用的方向相反的一侧。该基板处理设备(12)使用该膜形成设备(20)对基板(P)执行特定处理。该装置制造方法使用该膜形成设备(20)来制造装置。
申请人：株式会社尼康
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京三友知识产权代理有限公司
代理人：王小东
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