专利名称：基板处理装置及其处理方法专利类型：发明专利
发明人：金世镐,朴钟秀,尹哲男申请号：CN200510134615.4申请日：20051213公开号：CN1796008A公开日：20060705
摘要：本发明涉及一种基板处理装置，其包括：装载部，用于装载形成有物质膜的基板；干冰供给部，供给干冰粒子或二氧化碳；喷射处理部，包括一个以上的喷管，向上述基板上喷射由上述干冰供给部所提供的干冰粒子，或将二氧化碳固化后喷射到基板上，以对物质膜进行初步表面处理；表面处理部，对上述经过初步表面处理的物质膜进行选择性的去除。本发明使用不留残屑的干冰粒子，对物质膜进行改质或部分去除，并通过清洗或蚀刻等表面处理，去除经改质的物质膜，以此可缩短物质膜去除所需工时。
申请人：K.C.科技株式会社
地址：韩国京畿道
国籍：KR
代理机构：北京金信立方知识产权代理有限公司
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