专利名称：含有具有仲氨基的酚醛清漆聚合物的抗蚀剂下层膜
形成用组合物
专利类型：发明专利
发明人：西卷裕和,桥本圭祐,坂本力丸,远藤贵文申请号：CN201480070504.9申请日：20141215公开号：CN105874386A公开日：20160817
摘要：本发明的目的在于提供具有良好的硬掩模功能、并能够形成良好的图案形状的抗蚀剂下层膜。本发明提供了用于光刻工序的抗蚀剂下层膜形成用组合物，含有通过具有仲氨基的芳香族化合物与醛化合物的反应而得的酚醛清漆聚合物。酚醛清漆聚合物为含有式(1)所示的结构单元的聚合物。本发明还提供了半导体装置的制造方法，包括下述工序：利用本发明的抗蚀剂下层膜形成用组合物在半导体基板上形成抗蚀剂下层膜的工序；在该下层膜上形成硬掩模的工序；进而在该硬掩模上形成抗蚀剂膜的工序；通过光或电子束的照射和显影来形成抗蚀剂图案的工序；利用所形成的抗蚀剂图案对硬掩模进行蚀刻的工序；利用图案化了的硬掩模对该抗蚀剂下层膜进行蚀刻的工序；及利用图案化了的抗蚀剂下层膜对半导体基板进行加工的工序。
申请人：日产化学工业株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京市中咨律师事务所
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