专利名称：掩模坯料、相位位移掩模及其制造方法专利类型：发明专利
发明人：渡边浩司,早野胜也,高见泽秀吉,大川洋平,安达俊,谷
绚子,三浦阳一
申请号：CN201580015667.1申请日：20150129公开号：CN106133599A公开日：20161116
摘要：本发明提供一种掩模坯料，其具有透明基板、形成于所述透明基板上的半透明层、形成于所述半透明层上的中间层、和形成于所述中间层上的遮光层，所述遮光层由不含过渡金属的单一金属材料构成，所述遮光层的膜厚为40nm以下，层叠有所述半透明层、所述中间层、所述遮光层的3种层的层叠体相对于曝光光的光学密度，为作为遮光区域发挥功能的值以上；因此，其可用于制造即使遮光图案膜减薄仍具有高遮光性，可减小EMF偏差值，图案加工性、耐光性、耐药品性优异，适合于晶圆上的半间距40nm以下的光刻技术的半色调型相位位移掩模。
申请人：大日本印刷株式会社
地址：日本国东京都
国籍：JP
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：张玉玲
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