专利名称：成膜方法及使用前述成膜方法的积层体基板的制造
方法
专利类型：发明专利发明人：渡边宽人
申请号：CN201710103251.6申请日：20170224公开号：CN107130218A公开日：20170905
摘要：本发明公开成膜方法及使用前述成膜方法的积层体基板的制造方法，具体提供一种能够消除长条状树脂膜的宽度方向的色差而不易发生蚀刻不良的成膜方法。本发明的成膜方法是利用溅镀法等干式镀敷法于在真空室10内以辊对辊方式从卷出辊11搬送至卷取辊24的长条状树脂膜F的两面分别形成第1覆膜及第2覆膜，且在第1次卷取与第2次卷取之间适宜地利用来自离子源29的离子束照射对所述第1覆膜的表面实施干式蚀刻处理，所述第1次卷取是于将所述第1覆膜形成在长条状树脂膜F的一面之后，利用卷取辊24而实施，所述第2次卷取是于将第2覆膜形成在已形成第1覆膜的长条状树脂膜F的另一面之后，利用卷取辊24而实施。
申请人：住友金属矿山股份有限公司
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京戈程知识产权代理有限公司
代理人：程伟
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