专利名称：微纳线制备装置及微纳结构专利类型：实用新型专利发明人：方欲晓,赵春,赵策洲,杨莉申请号：CN201920252988.9申请日：20190228公开号：CN209850936U公开日：20191227
摘要：一种微纳线制备装置及微纳结构，属于微电子技术领域。所述微纳线制备装置包括液相纳米材料存储装置和微纳线布施机构；所述液相纳米材料存储装置设有至少一个出液孔，微纳线布施机构与出液孔一一对应设置；所述微纳线布施机构包括至少两根柔性线材，柔性线材表面具有规则分布的微型结构，柔性线材根部固定在液相纳米材料存储装置上，两根柔性线材为一组、端部下垂落于衬底上并相互顶靠，端部顶靠的两根柔性线材在衬底上投影后的夹角范围为1°～5°。本实用新型基于液相纳米材料的重力、与柔性线材的拉普拉斯压力差和不对称保持力，能够实现微纳线的快速制备。
申请人：西交利物浦大学
地址：215123 江苏省苏州市工业园区独墅湖科教创新区仁爱路111号
国籍：CN
代理机构：苏州创元专利商标事务所有限公司
代理人：范晴
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